لایه‌نشانی به روش کند و پاش

لایه‌نشانی(روش کندو پاش(Sputtering))

لایه نشانی با استفاده از پدیده کندو پاش یک روش لایه نشانی به روش فیزیکی تحت خلاء (Physical Vapor Deposition (PVD))  است که در آن ماده از حالت چگال وارد فاز بخار شده و مجددا به صورت لایه نازک به فاز چگال بر‌می‌گردد. این روش لایه‌نشانی برای تولید لایه‌های رسانا و نارسانا  از نانومتر تا میکرومتر می‌باشد. در این روش، فضای اطراف را با یک گاز بی‌اثر(مثل آرگون) پرکرده و با تاباندن بیم الکترونی به این گاز، اتم‌های آن با کندن الکترون‌هایش یونیزه می‌شوند. سپس این یون‌ها تحت تأثیر یک ولتاژ قرار داده شده تا در این میدان الکتریکی شتاب گرفته و به ماده مورد نظر برخورد کنند  و اتم‌های آن را جدا ‌کنند. این اتم‌ها  به سمت زیرلایه حرکت کرده و یک لایه نازک روی سطح آن تشکیل می دهند. برای لایه‌نشانی فلزات معمولاً از منبع ولتاژ مستقیم (DC) و برای لایه‌نشانی مواد عایق و نیمه‌رسانا از پتانسیل فرکانس ‏رادیویی (RF) استفاده می­‌شود که این دستگاه ما هم لایه‌نشانی مواد رسانا و هم مواد نارسانا را پوشش می‌دهد.